米印、貿易や産業協力の障壁巡り対応へ 「技術流出防止を決意」

インドの首都ニューデリーを訪問している米国のサリバン大統領補佐官（国家安全保障担当）（写真）は１７日、インドのアジット・ドバル国家安全保障補佐官と会談し、両国が二国間の戦略的貿易、技術、産業協力における障壁に対応するために行動することで確約した。５月撮影（２０２４年　ロイター/Leah Millis）

［ニューデリー　１７日　ロイター］ - インドの首都ニューデリーを訪問している米国のサリバン大統領補佐官（国家安全保障担当）は１７日、インドのアジット・ドバル国家安全保障補佐官と会談し、両国が二国間の戦略的貿易、技術、産業協力における障壁に対応するために行動することで確約した。

両氏は２０２３年１月に立ち上げた「米印重要・新興技術イニシアチブ」の第２回会合の議長を務めた。

インド政府が公表した会合の共同概況報告書には、具体的な国名は挙げられていないものの、両氏は「懸念国への機密技術や軍民両用技術の流出を防ぐことを決意した」と記された。

また、精密誘導弾やその他の国家安全保障に重点を置いた電子プラットフォームに関して、米国とインドの企業間で半導体に関する新たな戦略的パートナーシップも開始したという。

両氏はさらに「重要鉱物のサプライチェーン（供給網）を多様化するため」南米のリチウム資源プロジェクトとアフリカの希土類鉱床への共同出資で合意。グラファイト、ガリウム、ゲルマニウムに関する二国間重要鉱物協定を近く締結することも確約した。

このほか、陸上戦闘システムの共同生産の可能性についても協議したという。